[[メモ]] プラズマドライエッチングについて調査メモ - [[日本半導体歴史館>http://www.shmj.or.jp/index.html]] イケてる * プラズマ生成方法 [#xbc03e07] ** Mgnetron RIE [#nbc428cf] ** ECR [#i2afd04c] ** ICP [#p36abafb] 誘導結合型 ** 2-req. CCP [#q69790b7] 容量結合型 ** SWP [#r5d2eaf7] * リンク [#x2cd3ce4] - [[http://www.jspf.or.jp/Journal/PDF_JSPF/jspf2007_04/jspf2007_04-319.pdf]] 歴史なども分かりやすい - [[http://www.jspf.or.jp/Journal/PDF_JSPF/jspf2009_04/jspf2009_04-165.pdf]] なんかいっぱい書いてある - [[パナソニック ファクトリーソリューションズ:エッチング装置http://panasonic.co.jp/pfsc/technology/pdf/200803A.pdf]] ドライエッチング装置によるMEMS加工