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[[メモ]]
プラズマドライエッチングについて調査メモ
[[日本半導体歴史館>http://www.shmj.or.jp/index.html]]
- [[日本半導体歴史館>http://www.shmj.or.jp/index.html]]
イケてる
* プラズマ生成方法 [#xbc03e07]
** Mgnetron RIE [#nbc428cf]
** ECR [#i2afd04c]
** ICP [#p36abafb]
誘導結合型
** 2-req. CCP [#q69790b7]
容量結合型
** SWP [#r5d2eaf7]
* リンク [#x2cd3ce4]
- [[http://www.jspf.or.jp/Journal/PDF_JSPF/jspf2007_04/jspf2007_04-319.pdf]]
歴史なども分かりやすい
- [[http://www.jspf.or.jp/Journal/PDF_JSPF/jspf2009_04/jspf2009_04-165.pdf]]
なんかいっぱい書いてある
- [[パナソニック ファクトリーソリューションズ:エッチング装置http://panasonic.co.jp/pfsc/technology/pdf/200803A.pdf]]
ドライエッチング装置によるMEMS加工